氮化钛TiN靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

氮化钛(TiN)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 
【参数说明】
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
【产品介绍】
氮化钛(TiN)具有典型的NaCl型结构，属面心立方点阵，晶格常数a=0.4241nm，其中钛原子位于面心立方的角**。TiN是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为TiN0.37-TiN1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化。TiN粉末一般呈黄褐色，**细TiN粉末呈黑色，而TiN晶体呈金黄色。TiN熔点为2950℃，密度为5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗热冲击性好。TiN熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高，而密度却比大多数金属氮化物低，因此是一种很有特色的耐热材料。TiN的晶体结构与TiC的晶体结构相似，只是将其中的C原子置换成N原子。
中文名	氮化钛	熔      点	3290℃
化学式	TiN	密      度	5.43g/cm3
分子量	61.8737		

【关于我们】
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后**！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度； 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注  ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度**过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！ 
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不**过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。